第349章磐石科技（2/5）

当小李介绍到关键电解质材料在特定温度区间下的界面阻抗问题时，眉头紧锁，语气也变得沉重：“…这是目前最大的瓶颈之一，我们尝试了多种表面修饰方案，效果都不理想，导致大电流充放电时性能衰减严重，也影响了稳定性…”

就在小李陷入技术困境的沮丧时，一直沉默的林天突然开口，声音平静却清晰地穿透了仪器的嗡鸣：

“界面阻抗？试试用脉冲激光沉积（pLd）在电解质表面构建一层梯度掺杂的LipoN过渡层，厚度控制在15-20纳米。LipoN的离子电导率虽然不高，但作为缓冲层，其良好的界面兼容性和较低的电子电导可以有效抑制枝晶生长，同时降低界面阻抗。掺杂元素可以考虑ta或Nb，具体比例…” 林天顿了一下，仿佛在调取某个精确的数据库，“…铌（Nb）掺杂浓度在3.5 at%附近，梯度分布，靠近负极侧浓度稍高。”