第一七四六章 最后定调（2/5）

力推157nm干式光刻机的前会长，如今的顾问吉田一郎召集现任会长兼CEO森佳照明、常务副总裁原田弘树、副总裁兼尼康半导体研究所所长小川郁子、财务副总裁梅根·兰布林和托马斯·诺利克等高层到公司总部商议对策。

托马斯·诺利克首先开炮，建议公司立即开始研发浸润式光刻机，还有希望赶上主流路线。

吉田一郎在尼康半导体公司担任过社长、会长（董事长）兼CEO等职务，在半导体光刻机领域有着深厚的造诣和丰富的经验，对尼康半导体业务的发展有着深远的影响，虽然退居二线，但在公司还有巨大的权威。

尼康美国研究公司是尼康半导体公司的子公司，主要从事半导体光刻机相关的研究和开发公司。

“虽然如今157nm干式光刻机的制程工艺低于134nm浸没式光刻机，但干式光刻环境相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些；公司在157nm干式光刻路线上投入了近10亿美元巨资，掌握了核心技术，领先全球，虽然暂时处于劣势，但我们可以沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程工艺的干式光刻机，就能一举扭转我们被动的现状，继续引领光刻机的发展方向；我们现在重新投入巨资开始研发浸没式光刻机，除了一直追赶BSEC和ASML外，也将面临BSEC拥有的多项核心技术专利限制，如浸没式双工作台系统核心技术专利，流体处理系统核心技术专利、折返式投影核心技术专利、纯净水介质核心专利，要是BSEC不给我们授权纯净水介质核心专利，请问诺利克先生如何解决纯净水介质核心专利难题？”